藉由漸層式堆疊氧化鋯鉿薄膜以改善鐵電電晶體元件效能及可靠度__國立清華大學博碩士論文全文影像系統

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論文基本資料
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作者(中文):	高唯甯
作者(外文):	Kao, Wei-Ning
論文名稱(中文):	藉由漸層式堆疊氧化鋯鉿薄膜以改善鐵電電晶體元件效能及可靠度
論文名稱(外文):	Improved Performance and Reliability of Ferroelectric Field Effect Transistors by Composition Gradient Stacked Hf1-XZrXO2 Films
指導教授(中文):	巫勇賢
指導教授(外文):	Wu, Yung-Hsien
口試委員(中文):	吳永俊吳添立
口試委員(外文):	Wu, Yung-Chun Wu, Tian-Li
學位類別:	碩士
校院名稱:	國立清華大學
系所名稱:	半導體研究學院
學號:	111501554
出版年(民國):	113
畢業學年度:	112
語文別:	中文
論文頁數:	68
中文關鍵詞:	鐵電、鐵電電晶體、漸層式結構、氧化鋯鉿、可靠度、氧缺陷
外文關鍵詞:	Ferroelectric、FeFET、Gradient structure、HfZrOx、Reliability、Oxygen vacancy
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