開發高度羥基化鉿、錫金屬團簇與混合材料並應用於電子束微影__國立清華大學博碩士論文全文影像系統

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論文基本資料
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作者(中文):	陳俊穎
作者(外文):	Chen, Chun-Ying
論文名稱(中文):	開發高度羥基化鉿、錫金屬團簇與混合材料並應用於電子束微影
論文名稱(外文):	Development of Highly Hydroxylated Hafnium, Tin Metal Clusters and Blending Materials for Applications in Electron Beam Lithography
指導教授(中文):	劉瑞雄
指導教授(外文):	Liu, Rai-Shung
口試委員(中文):	吳典霖許博淵
口試委員(外文):	Wu, Tien-Lin Shew, Bor-Yuan
學位類別:	碩士
校院名稱:	國立清華大學
系所名稱:	化學系
學號:	111023508
出版年(民國):	113
畢業學年度:	112
語文別:	中文
論文頁數:	172
中文關鍵詞:	無機光阻、電子束微影、錫光阻材料、鉿光阻材料、極紫外光微影技術
外文關鍵詞:	Inorganic photoresist、Electron beam lithography、Tin-based photoresist、Hafnium-based photoresist、EUV lithography
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