合成部分羥基化的六錫氧化物團簇及混合材料並探討其作為光阻劑於電子束微影之性能__國立清華大學博碩士論文全文影像系統

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論文基本資料
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作者(中文):	吳沛錤
作者(外文):	Wu, Pei-Chi
論文名稱(中文):	合成部分羥基化的六錫氧化物團簇及混合材料並探討其作為光阻劑於電子束微影之性能
論文名稱(外文):	Synthesis of Partially Hydroxylated 6-Tin Oxide Clusters and Blending Materials and Study on Photoresist Performance in Electron Beam Lithography
指導教授(中文):	劉瑞雄
指導教授(外文):	Liu, Rai-Shung
口試委員(中文):	高蔡勝林俊宏
口試委員(外文):	Gau, Tsi-Sheng Lin, Chun-Hung
學位類別:	碩士
校院名稱:	國立清華大學
系所名稱:	化學系
學號:	111023502
出版年(民國):	113
畢業學年度:	112
語文別:	中文
論文頁數:	165
中文關鍵詞:	半導體、無機光阻材料、非化學增感型光阻、六錫氧化物團簇、電子束微影
外文關鍵詞:	Semiconductor、Inorganic photoresist、Non-chemically amplified resist、6-Tin oxide clusters、Electron beam lithography
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