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作者(中文):郭雨潔
作者(外文):Kuo, Yu-Chieh
論文名稱(中文):金屬錫團簇與錫釩氧酸鹽光阻材料之合成並應用於極紫外光及電子束微影
論文名稱(外文):Synthesis of Photoresist Materials with Tin Clusters and Tin- Vanadium Polyoxometalate and Apply to Extreme Ultraviolet and Electron Beam Photolithography
指導教授(中文):劉瑞雄
指導教授(外文):Liu, Rai-Shung
口試委員(中文):高蔡勝
林俊宏
口試委員(外文):Kao, Tsai-Sheng
Lin, Chun-Hung
學位類別:碩士
校院名稱:國立清華大學
系所名稱:化學系
學號:110023566
出版年(民國):112
畢業學年度:111
語文別:中文
論文頁數:186
中文關鍵詞:極紫外光光阻劑微影六錫梯形團簇錫釩氧酸鹽
外文關鍵詞:EUVPhotoresistTin ClustersPhotolithographyTin- Vanadium Polyoxometalate
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