開發高度羥基化金屬團簇與混合材料並應用於電子束微影與極紫外光微影__國立清華大學博碩士論文全文影像系統

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論文基本資料
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作者(中文):	曾于芳
作者(外文):	Tseng, Yu-Fang
論文名稱(中文):	開發高度羥基化金屬團簇與混合材料並應用於電子束微影與極紫外光微影
論文名稱(外文):	Development of Highly Hydroxylated Metal Clusters and Blending Materials for Applications in Electron Beam and Extreme Ultraviolet Lithography
指導教授(中文):	劉瑞雄
指導教授(外文):	Liu, Rai-Shung
口試委員(中文):	高蔡勝林俊宏
口試委員(外文):	Gau, Tsi-Sheng Lin, Chun-Hung
學位類別:	碩士
校院名稱:	國立清華大學
系所名稱:	化學系
學號:	110023551
出版年(民國):	112
畢業學年度:	111
語文別:	中文
論文頁數:	185
中文關鍵詞:	半導體、極紫外光光阻、無機光阻材料、鉿光阻材料、極紫外光微影技術、非化學增感型光阻
外文關鍵詞:	Semiconductor、Extreme ultraviolet (EUV) photoresist、Inorganic photoresist、Hafnium-based photoresist、EUV lithography、Non-chemically amplified resist
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