富含雙鍵的六錫氧化物團簇之合成作為光阻劑應用於極紫外光微影與電子束微影性能__國立清華大學博碩士論文全文影像系統

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論文基本資料
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作者(中文):	吳佳蓉
作者(外文):	Wu, Jia-Rong
論文名稱(中文):	富含雙鍵的六錫氧化物團簇之合成作為光阻劑應用於極紫外光微影與電子束微影性能
論文名稱(外文):	Synthesis of double bond-rich Sn6-oxo clusters as photoresists for extreme ultraviolet lithography and electron beam lithography
指導教授(中文):	劉瑞雄
指導教授(外文):	Liu, Rai-Shung
口試委員(中文):	高蔡勝許博淵
口試委員(外文):	Gau, Tsi-Sheng Shew, Bor-Yuan
學位類別:	碩士
校院名稱:	國立清華大學
系所名稱:	化學系
學號:	110023549
出版年(民國):	112
畢業學年度:	111
語文別:	中文
論文頁數:	179
中文關鍵詞:	錫氧化物團簇、極紫外光、光阻劑、微影技術、電子束微影
外文關鍵詞:	Tin-oxo clusters、Extreme Ultraviolet、photoresist、lithography、electron beam lithography
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