以電漿輔助化學氣相沉積法及氯化物前驅物製備鍺錫薄膜之製程優化及薄膜光致發光特性研究__國立清華大學博碩士論文全文影像系統

圖書館首頁| 網站地圖| 首頁| 本站說明| 聯絡我們| 相關資源| 台聯大論文系統| 操作說明 | English

帳號：guest(3.133.116.91) 離開系統

字體大小：

字級放大

字級縮小

預設字形

詳目顯示

第 1 筆 / 共 1 筆

第一頁

上一頁

下一頁

最後一頁

/1頁

以作者查詢圖書館館藏

、以作者查詢臺灣博碩士論文系統

、以作者查詢全國書目

論文基本資料
電子全文

作者(中文):	林哲璋
作者(外文):	Lin, Zhe-Zhang
論文名稱(中文):	以電漿輔助化學氣相沉積法及氯化物前驅物製備鍺錫薄膜之製程優化及薄膜光致發光特性研究
論文名稱(外文):	Process Optimization of Germanium Tin Thin Film Prepared by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition and Chloride Precursors and Study of Film Photoluminescence Characteristics
指導教授(中文):	林明緯陳賜原
指導教授(外文):	Lin, Ming-Wei Chen, Szu-Yuan
口試委員(中文):	王偉華趙得勝
口試委員(外文):	Wang, Wei-Hua Chao, Der-Sheng
學位類別:	碩士
校院名稱:	國立清華大學
系所名稱:	核子工程與科學研究所
學號:	110013506
出版年(民國):	113
畢業學年度:	112
語文別:	中文
論文頁數:	64
中文關鍵詞:	鍺錫薄膜、電漿輔助化學氣相沉積法、光致發光、中紅外光電元件
外文關鍵詞:	GeSn thin film、PECVD、Photoluminescence、Infrared photonic
相關次數:	推薦:0 點閱:10 評分: 下載:0 收藏:0

(此全文20290124後開放外部瀏覽)
電子全文
摘要

推文
推薦
評分
引用網址
轉寄

第一頁

上一頁

下一頁

最後一頁

相關論文

1.	以電漿輔助化學氣相沉積法生長高品質鍺錫薄膜用以製作光偵測器
2.	以電漿輔助化學氣相沈積生長非晶氮化矽薄膜
3.	有機閃爍偵檢器EJ-290之光產率量測
4.	二極體汲發摻鐿氟化鈣再生放大器架設與優化
5.	利用兆瓦級雷射脈衝在次毫米尺度之稠密氮氣氣靶實現之雷射尾流場加速
6.	發展基於碘化鈉偵檢器之瞬發加馬輻射偵檢系統進行質子射程驗證
7.	次兆瓦與數兆瓦雷射尾流場加速中游離電子注入功效之模擬研究
8.	發展電漿誘發化學氣相沉積法沉積適合光電元件的鍺薄膜以及鍺錫薄膜
9.	發展用於電子束劑量量測之平板型游離腔
10.	基於有機閃爍體量測之光子與快中子能譜反解技術
11.	以次毫米高密度氮氣靶實現之一兆瓦雷射射尾流場電子加速
12.	次毫米尺度高密度氮氣氣靶之流體分析與其應用於雷射尾流場電子加速之特性研究
13.	發展用於硼中子捕獲治療中量測硼-10空間分佈之準直儀瞬發加馬射線量測系統

簡易查詢 | 進階查詢 | 論文瀏覽 | 熱門排行 | 管理/審核者登入