藉由原子層氣相沉積氮化鉭與回春現象提升鐵電電容的可靠度及介面品質__國立清華大學博碩士論文全文影像系統

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論文基本資料
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作者(中文):	王辰馨
作者(外文):	Wang, Chen-Hsin
論文名稱(中文):	藉由原子層氣相沉積氮化鉭與回春現象提升鐵電電容的可靠度及介面品質
論文名稱(外文):	Improved Reliability for Ferroelectric Capacitor and Interface Quality by Atomic Layer Deposited Tantalum Nitride and Rejuvenation Phenomenon
指導教授(中文):	巫勇賢
指導教授(外文):	Wu, Yung-Hsien
口試委員(中文):	李耀仁吳永俊
口試委員(外文):	Lee, Yao-Jen Wu, Yung-Chun
學位類別:	碩士
校院名稱:	國立清華大學
系所名稱:	工程與系統科學系
學號:	110011549
出版年(民國):	112
畢業學年度:	112
語文別:	中文
論文頁數:	71
中文關鍵詞:	鐵電電容、原子層氣相沉積、氮化鉭、回春現象、可靠度
外文關鍵詞:	Ferroelectric Capacitor、Reliability、Atomic Layer Deposited、Tantalum Nitride、Rejuvenation Phenomenon
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