發展以電漿輔助化學氣相沉積法與氯化物前驅物鍍鍺錫薄膜製作短波長紅外光波段光偵測器之技術__國立清華大學博碩士論文全文影像系統

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論文基本資料
電子全文

作者(中文):	蔡尚哲
作者(外文):	Tsai, Shang-Che
論文名稱(中文):	發展以電漿輔助化學氣相沉積法與氯化物前驅物鍍鍺錫薄膜製作短波長紅外光波段光偵測器之技術
論文名稱(外文):	Development of Techniques for Fabrication of Short-Wave Infrared Detectors Based on GeSn Thin Films Deposited by Using PECVD and Chloride Precursors
指導教授(中文):	林明緯陳賜原
指導教授(外文):	Lin, Ming-Wei Chen, Szu-yuan
口試委員(中文):	王偉華趙得勝
口試委員(外文):	Wang, Wei-Hua Chao, Der-Sheng
學位類別:	碩士
校院名稱:	國立清華大學
系所名稱:	工程與系統科學系
學號:	110011545
出版年(民國):	113
畢業學年度:	112
語文別:	中文
論文頁數:	95
中文關鍵詞:	短波紅外光偵測器、鍺錫合金、電漿輔助化學氣相沉積
外文關鍵詞:	infrared photodiode、germanium-tin alloy、PECVD
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