磁控濺鍍之基板溫度對於高熵合金薄膜微結構與性質影響__國立清華大學博碩士論文全文影像系統

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論文基本資料
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作者(中文):	林昀萱
作者(外文):	Lin, Yun-Xuan
論文名稱(中文):	磁控濺鍍之基板溫度對於高熵合金薄膜微結構與性質影響
論文名稱(外文):	Effect of substrate temperature on properties and microstructure of high entropy alloy thin films deposited by magnetron sputtering systems
指導教授(中文):	歐陽汎怡
指導教授(外文):	Ouyang, Fan-Yi
口試委員(中文):	李志偉藍貫哲
口試委員(外文):	Lee, Jyh-Wei Lan, Kuan-Che
學位類別:	碩士
校院名稱:	國立清華大學
系所名稱:	工程與系統科學系
學號:	110011507
出版年(民國):	112
畢業學年度:	112
語文別:	中文
論文頁數:	73
中文關鍵詞:	高熵合金、濺鍍、薄膜、微結構、基板溫度、機械性質
外文關鍵詞:	High entropy alloy、Sputter、Thin films、Microstructure、Substrate temperature、Mechanical property
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