利用高功率脈衝磁控濺鍍製備之氮化釩鉬薄膜氧化行為研究__國立清華大學博碩士論文全文影像系統

圖書館首頁| 網站地圖| 首頁| 本站說明| 聯絡我們| 相關資源| 台聯大論文系統| 操作說明 | English

帳號：guest(3.15.237.89) 離開系統

字體大小：

字級放大

字級縮小

預設字形

詳目顯示

第 1 筆 / 共 1 筆

第一頁

上一頁

下一頁

最後一頁

/1頁

以作者查詢圖書館館藏

、以作者查詢臺灣博碩士論文系統

、以作者查詢全國書目

論文基本資料
電子全文

作者(中文):	賴南政
作者(外文):	Lai, Nan-Cheng
論文名稱(中文):	利用高功率脈衝磁控濺鍍製備之氮化釩鉬薄膜氧化行為研究
論文名稱(外文):	The Oxidation Behavior of VMoN Thin Films Deposited by High Power Pulsed Magnetron Sputtering
指導教授(中文):	黃嘉宏
指導教授(外文):	Huang, Jia-Hong
口試委員(中文):	藍貫哲董曉明
口試委員(外文):	Lan, Kuan-Che Tung, Hsiao-Ming
學位類別:	碩士
校院名稱:	國立清華大學
系所名稱:	工程與系統科學系
學號:	110011503
出版年(民國):	112
畢業學年度:	111
語文別:	英文
論文頁數:	84
中文關鍵詞:	氮化釩鉬、高功率脈衝磁控濺鍍、氧化行為、熱重分析法、佔空比
外文關鍵詞:	Vanadium molybdenum nitride、HPPMS、Oxidation behavior、Thermal gravimetric analysis、Duty cycle
相關次數:	推薦:0 點閱:80 評分: 下載:0 收藏:0

(此全文20250820後開放外部瀏覽)
電子全文
摘要

推文
推薦
評分
引用網址
轉寄

第一頁

上一頁

下一頁

最後一頁

相關論文

1.	氮流量對氮化鉬鍍層之高溫磨潤性及氧化行為影響研究
2.	基板偏壓對高功率脈衝磁控濺鍍製備氮化釩薄膜氧化行為之影響
3.	佔空比對高功率脈衝磁控濺鍍製備之氮化鈦覆蓋氮化釩鍍層機械性質之影響
4.	佔空比及工作氣壓對高功率脈衝與非平衡磁控共濺鍍於D2鋼基材之氮化鈦鋯鍍層結構和機械性質的影響
5.	非平衡磁控濺鍍製程中氧氣流量對奈米晶氮氧化鈦薄膜合成及性質特徵之影響研究
6.	基版偏壓及熱處理對氮化鋯奈米薄膜結構與性質之影響
7.	非平衡磁控濺鍍製程中鍍膜厚度和鈦介層厚度對奈米晶氮化鈦薄膜之結構與性質之影響研究
8.	含預製鋯介層之奈米晶氮化鋯薄膜製程及性質之研究
9.	氮氣流量對非平衡磁控濺鍍奈米晶氮化鋯薄膜之結構和性質的影響
10.	控制氣氛下熱處理對氮化鋯薄膜性質之影響
11.	氧氣流量對柰米晶氮氧化鋯薄膜結構和性質的影響之研究
12.	離子鍍著奈米晶氮氧化鋯薄膜之研究
13.	摻雜氧對於奈米晶氮氧化鈦薄膜結構與性質之影響
14.	離子鍍著製程中奈米晶氮氧化鋯薄膜之合成與性質特徵之影響研究
15.	膜厚對離子鍍著奈米晶氮氧化鋯薄膜結構及性質之影響

簡易查詢 | 進階查詢 | 論文瀏覽 | 熱門排行 | 管理/審核者登入