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論文基本資料
電子全文
作者(中文):
楊凱崴
作者(外文):
Yang, Kai-Wei
論文名稱(中文):
互補式金氧半鰭式電晶體後端製程電漿感應充電效應暨區域變異性之研究
論文名稱(外文):
A Study of Plasma Induced Charging Effect in CMOS FinFET BEOL Processes and Local Variation Analysis
指導教授(中文):
金雅琴
指導教授(外文):
King, Ya-Chin
口試委員(中文):
林崇榮
施教仁
口試委員(外文):
Lin, Chrong-Jung
Shih, Jiaw-Ren
學位類別:
碩士
校院名稱:
國立清華大學
系所名稱:
電子工程研究所
學號:
109063501
出版年(民國):
111
畢業學年度:
110
語文別:
中文
論文頁數:
63
中文關鍵詞:
電漿感應充電效應
、
浮動閘極
、
鰭式電晶體
、
天線效應
外文關鍵詞:
Plasma Induced Charging Effect
、
Floating Gate
、
FinFET
、
Antenna Effect
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