基於快速熱退火矽化物技術之微小間隙電容式微機電超聲波元件製程開發__國立清華大學博碩士論文全文影像系統

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論文基本資料
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作者(中文):	黃立杰
作者(外文):	Hwang, Lee-Chieh
論文名稱(中文):	基於快速熱退火矽化物技術之微小間隙電容式微機電超聲波元件製程開發
論文名稱(外文):	Process Development of Capacitive Micromachined Ultrasound Transducers Based on Rapid Thermal Annealing Silicidation
指導教授(中文):	李昇憲傅建中
指導教授(外文):	LI, SHENG-SHIAN FU, CHIEN-CHUNG
口試委員(中文):	周正三王地寶
口試委員(外文):	Chou, Cheng-San Wang, Di-Bao
學位類別:	碩士
校院名稱:	國立清華大學
系所名稱:	奈米工程與微系統研究所
學號:	109035511
出版年(民國):	112
畢業學年度:	111
語文別:	中文
論文頁數:	88
中文關鍵詞:	電容式微機電傳感器、超聲波、鎳基矽化物、機電耦合、矽化物、快速熱退火
外文關鍵詞:	Capacitor Ultrasound Micromachined Transducer(CMUT)、Silicidation、Nickel-Silicide、Rapid Thermal Annealing (RTA)、Electromechanical Coupling
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