反應式射頻磁控濺鍍法製備模造玻璃抗沾黏高熵氮化物薄膜之研究__國立清華大學博碩士論文全文影像系統

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論文基本資料
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作者(中文):	劉伊庭
作者(外文):	Liu, Yi-Ting
論文名稱(中文):	反應式射頻磁控濺鍍法製備模造玻璃抗沾黏高熵氮化物薄膜之研究
論文名稱(外文):	Study on Anti-stick Glass-molding High-entropy Nitride Films Deposited by RF Reactive Magnetron Sputtering
指導教授(中文):	葉均蔚林樹均
指導教授(外文):	Yeh, Jien-Wei Lin, Su-Jien
口試委員(中文):	洪健龍曹春暉
口試委員(外文):	Horng, Jain-Long Tsau, Chun-Huei
學位類別:	碩士
校院名稱:	國立清華大學
系所名稱:	材料科學工程學系
學號:	109031590
出版年(民國):	111
畢業學年度:	110
語文別:	中文
論文頁數:	182
中文關鍵詞:	濺鍍、高熵、薄膜
外文關鍵詞:	Sputtering、High-entropy、Films
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