合成具有烯基官能基之金屬錫團簇光阻材料並應用於電子束與極紫外光微影技術__國立清華大學博碩士論文全文影像系統

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論文基本資料
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作者(中文):	吳晏如
作者(外文):	Wu, Yan-Ru.
論文名稱(中文):	合成具有烯基官能基之金屬錫團簇光阻材料並應用於電子束與極紫外光微影技術
論文名稱(外文):	Synthesis Tin Clusters Photoresist Materials with Alkenyl Functional Group and Applied to Electron Beam and Extreme Ultraviolet Lithography
指導教授(中文):	劉瑞雄
指導教授(外文):	Liu, Rai-Shung
口試委員(中文):	邱博文高蔡勝林俊宏
口試委員(外文):	Chiu, Po-Wen Kao, Tsai Sheng Lin, Chun-Hung
學位類別:	碩士
校院名稱:	國立清華大學
系所名稱:	化學系
學號:	109023538
出版年(民國):	111
畢業學年度:	110
語文別:	中文
論文頁數:	256
中文關鍵詞:	錫金屬團簇、負光阻、電子束微影、極紫外光微影、小線寬及低能量、曝光之機制追蹤
外文關鍵詞:	Tin carboxylate clusters、Negative-tone photoresist、E-beam lithography、EUV lithography、Small half pitches and low energy doses、Exposure Mechanism Tracking
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