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論文基本資料
電子全文
作者(中文):
溫盛凱
作者(外文):
Wen, Sheng-Kai
論文名稱(中文):
利用電漿輔助分子束磊晶成長氮化鋁鈦超薄膜之研究
論文名稱(外文):
Study of epitaxial growth of TixAl1-xN film by plasma assisted molecular beam epitaxy
指導教授(中文):
果尚志
指導教授(外文):
Gwo, Shangjr
口試委員(中文):
陳溪新
安惠榮
口試委員(外文):
Chen, David
Ahn, Hyeyoung
學位類別:
碩士
校院名稱:
國立清華大學
系所名稱:
物理學系
學號:
109022534
出版年(民國):
112
畢業學年度:
111
語文別:
中文
論文頁數:
83
中文關鍵詞:
氮化鋁鈦
、
電漿輔助分子束磊晶
、
超薄膜
、
介電函數
外文關鍵詞:
Titanium Aluminum nitride
、
plasma-assisted molecular beam epitaxy (PA-MBE)
、
ultra-thin film
、
dielectric function
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