資料載入處理中...
圖書館首頁
|
網站地圖
|
首頁
|
本站說明
|
聯絡我們
|
相關資源
|
台聯大論文系統
|
操作說明
|
English
簡易查詢
進階查詢
論文瀏覽
熱門排行
我的研究室
上傳論文
建檔說明
常見問題
帳號:guest(52.14.2.251)
離開系統
字體大小:
詳目顯示
第 1 筆 / 共 1 筆
/1
頁
以作者查詢圖書館館藏
、
以作者查詢臺灣博碩士論文系統
、
以作者查詢全國書目
論文基本資料
電子全文
作者(中文):
陳建智
作者(外文):
Chen, Jian-Zhi
論文名稱(中文):
鍺基板鐵電電晶體採用微波退火後快速熱退火製程以實現三位元儲存能力和堅固耐用性
論文名稱(外文):
Ge FeFET Memory with Triple-Level Cell Storage Capability and Robust Endurance Using Microwave Annealing Followed by Rapid Thermal Annealing
指導教授(中文):
巫勇賢
指導教授(外文):
Wu, Yung-Hsien
口試委員(中文):
吳永俊
蘇俊榮
口試委員(外文):
Wu, Yung-Chun
學位類別:
碩士
校院名稱:
國立清華大學
系所名稱:
工程與系統科學系
學號:
109011543
出版年(民國):
111
畢業學年度:
110
語文別:
中文
論文頁數:
76
中文關鍵詞:
鍺基板
、
鐵電電晶體
、
介面工程
、
電荷捕捉效應
、
三位元
、
微波退火
外文關鍵詞:
Germanium Substrate
、
FeFET
、
Interface engineering
、
Charge trapping effect
、
Triple-level Cell
、
Microwave annealing
相關次數:
推薦:0
點閱:421
評分:
下載:0
收藏:0
(此全文20250726後開放外部瀏覽)
電子全文
摘要
推文
當script無法執行時可按︰
推文
推薦
當script無法執行時可按︰
推薦
評分
當script無法執行時可按︰
評分
引用網址
當script無法執行時可按︰
引用網址
轉寄
當script無法執行時可按︰
轉寄
top
相關論文
1.
使用鐵電HZO加強的電荷捕捉機制實現低操作電壓及高耐久度的N通道鍺鐵電電晶體
2.
藉由氧化鋁與氮化鋁介面層並透過微波退火技術實現N通道鍺鐵電電晶體
3.
以介面工程改善鐵電氧化鉿鋯記憶體之可靠度表現
4.
以微波退火處理改善鍺金氧半電晶體之介面層研究
5.
藉由沉積後退火製程與介面工程開發高可靠度之鐵電電容及應用於多位元儲存操作
6.
矽晶圓上鍺電容器之高品質閘極氧化層
7.
利用氮化的方式在矽太陽能電池上形成選擇性射極
8.
在矽晶圓上製作高效能鍺電晶體
9.
以鍺化物作為非揮發性記憶體之電荷儲存層
10.
高介電常數結晶態鋯基介電層於金屬—絕緣體—金屬電容之研究
11.
三維分佈奈米晶體與結晶化高介電材料應用於非揮發性記憶體之研究
12.
High performance MIM capacitor with bi-layer high-k dielectric structure
13.
使用二氧化矽/二氧化鈦堆疊介電層調節金屬-絕緣體-金屬電容二次電容電壓係數之研究
14.
利用ZrTiOx介電層製作MIS結構及MIM結構電阻式記憶體
15.
結晶態高介電常數材料結合稀土族氧化物介面層作為金氧半電容元件閘極堆疊結構之研究
簡易查詢
|
進階查詢
|
論文瀏覽
|
熱門排行
|
管理/審核者登入