藉由單層原子蝕刻技術達到大面積均勻且可控制層數之二硫化鎢薄膜__國立清華大學博碩士論文全文影像系統

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論文基本資料
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作者(中文):	杜韋霖
作者(外文):	Du, Wei-Lin
論文名稱(中文):	藉由單層原子蝕刻技術達到大面積均勻且可控制層數之二硫化鎢薄膜
論文名稱(外文):	Large Scale, Uniform, and Layer-by-layer Control of Few Layer WS2 Film by Atomic Layer Etching
指導教授(中文):	嚴大任
指導教授(外文):	Yen, Ta-Jen
口試委員(中文):	呂明諺陳哲勤
口試委員(外文):	Lu, Ming-Yen Chen, Che-Chin
學位類別:	碩士
校院名稱:	國立清華大學
系所名稱:	材料科學工程學系
學號:	108031582
出版年(民國):	110
畢業學年度:	109
語文別:	英文
論文頁數:	88
中文關鍵詞:	二維材料、二硫化鎢、單層原子蝕刻、大面積單層蝕刻、過渡金屬二硫屬化物、自限性
外文關鍵詞:	two-dimensional material、tungsten disulfide (WS2)、atomic layer etching (ALE)、large scale single-layer etching、transition metal dichalcogenides (TMDs)、self-limiting
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