磁控濺鍍AlCrNbSiW高熵氮化膜之研究__國立清華大學博碩士論文全文影像系統

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論文基本資料
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作者(中文):	羅珮紋
作者(外文):	Lo, Pei-Wen
論文名稱(中文):	磁控濺鍍AlCrNbSiW高熵氮化膜之研究
論文名稱(外文):	Development of AlCrNbSiW High-Entropy Nitride Coating Deposited by DC Magnetron Sputtering
指導教授(中文):	葉均蔚
指導教授(外文):	Yeh, Jien-Wei
口試委員(中文):	洪健龍曹春暉李勝隆蔡哲瑋
口試委員(外文):	Hong, Jian-Long Cao, Chun-Huei Li, Sheng-Long Tsai, Che-Wei
學位類別:	碩士
校院名稱:	國立清華大學
系所名稱:	材料科學工程學系
學號:	107031522
出版年(民國):	109
畢業學年度:	108
語文別:	中文
論文頁數:	158
中文關鍵詞:	高熵合金、氮化膜、磁控濺鍍、硬質膜
外文關鍵詞:	HEA、nitride coating、sputter、hard coating
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