複合式高功率脈衝磁控濺鍍法及陰極電弧沉積法製備(AlCrNbSiTi)N/TiN多層膜之結構與性質探討__國立清華大學博碩士論文全文影像系統

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論文基本資料
電子全文

作者(中文):	李京穎
作者(外文):	Lee, Ching-Yin
論文名稱(中文):	複合式高功率脈衝磁控濺鍍法及陰極電弧沉積法製備(AlCrNbSiTi)N/TiN多層膜之結構與性質探討
論文名稱(外文):	A study on microstructures and properties of (AlCrNbSiTi)N/TiN multilayer nitride films deposited by the hybrid system of HiPIMS and CAD techniques
指導教授(中文):	葉均蔚林樹均
指導教授(外文):	Yeh, Jien-Wei Lin, Su-Jien
口試委員(中文):	洪建龍曹春暉蔡哲瑋
口試委員(外文):	Horng, Jian-Long Tsau, Chun-Huei Tsai, Tse-Wei
學位類別:	博士
校院名稱:	國立清華大學
系所名稱:	材料科學工程學系
學號:	107031510
出版年(民國):	113
畢業學年度:	112
語文別:	中文
論文頁數:	249
中文關鍵詞:	高功率脈衝磁控濺鍍、陰極電弧沉積、多層膜、高熵薄膜、硬質薄膜、附著度
外文關鍵詞:	High power impulse magnetron sputtering、Cathodic arc deposition、Multilayer、High-entropy thin film、Hard coating、Adhesion
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