四錫及二錫團簇結構光阻材料合成並應用於極紫外光及電子束微影技術__國立清華大學博碩士論文全文影像系統

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論文基本資料
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作者(中文):	楊詠欣
作者(外文):	Ieong, Weng-Ian
論文名稱(中文):	四錫及二錫團簇結構光阻材料合成並應用於極紫外光及電子束微影技術
論文名稱(外文):	Synthesis 4-Tin and 2-Tin Oxide Clusters Photoresist Materials and Applied to Extreme Ultraviolet and Electron Beam Photolithography
指導教授(中文):	劉瑞雄
指導教授(外文):	Liu, Rai-Shung
口試委員(中文):	邱博文許博淵
口試委員(外文):	Chiu, Po-Wen Shew, Bor-Yuan
學位類別:	碩士
校院名稱:	國立清華大學
系所名稱:	化學系
學號:	107023402
出版年(民國):	109
畢業學年度:	108
語文別:	中文
論文頁數:	272
中文關鍵詞:	錫金屬、光阻材料、極紫外光微影技術、電子束微影技術
外文關鍵詞:	Tin cluster、Photoresist Materials、Extreme Ultraviolet Photolithography、Electron Beam Photolithography
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