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作者(中文):郭昱廷
作者(外文):Kuo, Yu-Ting
論文名稱(中文):閘極堆疊介面處理對鰭式電晶體之電特性與可靠度影響研究
論文名稱(外文):Effects of Gate-stack Interfacial Treatment on Electrical and Reliability Characteristics in FinFET
指導教授(中文):張廖貴術
指導教授(外文):ChangLiao, Kuei-Shu
口試委員(中文):趙天生
劉柏村
口試委員(外文):Chao, Tien-Sheng
Liu, Po-Tsun
學位類別:碩士
校院名稱:國立清華大學
系所名稱:工程與系統科學系
學號:107011567
出版年(民國):109
畢業學年度:108
語文別:中文
論文頁數:83
中文關鍵詞:矽、介面處理、鰭式場效電晶體、退火、氮化
外文關鍵詞:Si、interfacial treatment、FinFET、annealing、nitridation
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