利用固液相共存熱退火a-GeSn/SOI結構製備富鍺之矽鍺薄膜__國立清華大學博碩士論文全文影像系統

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論文基本資料
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作者(中文):	温宜學
作者(外文):	Wun, Yi-Syue
論文名稱(中文):	利用固液相共存熱退火a-GeSn/SOI結構製備富鍺之矽鍺薄膜
論文名稱(外文):	Fabrication of Ge-rich SiGe thin film by solid-liquid-coexisting annealing of a-GeSn/SOI structure
指導教授(中文):	李明昌
指導教授(外文):	Lee, Ming-Chang
口試委員(中文):	巫勇賢古凱寧
口試委員(外文):	Wu, Yung-Hsien Ku, Kai-Ning
學位類別:	碩士
校院名稱:	國立清華大學
系所名稱:	光電工程研究所
學號:	106066523
出版年(民國):	109
畢業學年度:	109
語文別:	中文
論文頁數:	57
中文關鍵詞:	磊晶矽鍺合金、固液相共存、鍺錫合金、熱退火
外文關鍵詞:	Epitaxial SiGe、solid-liquid-coexisting、GeSn、Annealing
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