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作者(中文):粘巧芸
作者(外文):Nien, Chiao-Yun
論文名稱(中文):金屬錫團簇光阻材料合成並應用於極紫外光及電子束微影
論文名稱(外文):Synthesis of Photoresist Materials with Metal Tin Clusters and Applied to Extreme Ultraviolet and Electron Beam Photolithography
指導教授(中文):劉瑞雄
指導教授(外文):Liu, Rai-Shung
口試委員(中文):邱博文
許博淵
口試委員(外文):Chiu, Po-Wen
Shew, Bor-Yuan
學位類別:碩士
校院名稱:國立清華大學
系所名稱:化學系
學號:106023530
出版年(民國):109
畢業學年度:108
語文別:中文
論文頁數:448
中文關鍵詞:光阻、極紫外光、電子束、微影術、錫金屬、碳酸根、有機酸根、成膜性、解析度、粗糙度、靈敏度
外文關鍵詞:Photoresists、EUV、E-Beam、Photolithography、Tin、Carbonate、Organic-acid、Film、Resolution、Roughness、Sensitivity
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