電漿處理在金屬-絕緣層-N型鍺接觸的影響研究__國立清華大學博碩士論文全文影像系統

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論文基本資料
電子全文

作者(中文):	張延
作者(外文):	Chang, Yan
論文名稱(中文):	電漿處理在金屬-絕緣層-N型鍺接觸的影響研究
論文名稱(外文):	Effects of Plasma Treatment on Metal/Insulator/n-type Germanium Contact
指導教授(中文):	吳文發張廖貴術
指導教授(外文):	Wu, Wen-Fa ChangLiao, Kuei-Shu
口試委員(中文):	吳永俊羅廣禮
口試委員(外文):	Wu, Yung-Chun Luo, Guang-Li
學位類別:	碩士
校院名稱:	國立清華大學
系所名稱:	工程與系統科學系
學號:	106011572
出版年(民國):	108
畢業學年度:	108
語文別:	中文
論文頁數:	69
中文關鍵詞:	鍺、電漿處理、接觸
外文關鍵詞:	plasma、germanium、contact
相關次數:	推薦:0 點閱:55 評分: 下載:0 收藏:0

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