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作者(中文):傅睿紘
作者(外文):Fu, Jui-Hung
論文名稱(中文):極強紫外線光阻材料開發及改良,多種錫團簇系統材料合成
論文名稱(外文):Development and Improvement of Extremely Ultraviolet Photoresist Containing Twelve, Six, Four and Other Tin Clusters
指導教授(中文):劉瑞雄
指導教授(外文):Liu, Rai-Shung
口試委員(中文):許博淵
邱博文
口試委員(外文):Shew, Bor-Yuan
Chiu, Po-Wen
學位類別:碩士
校院名稱:國立清華大學
系所名稱:化學系
學號:105023568
出版年(民國):107
畢業學年度:106
語文別:中文
論文頁數:438
中文關鍵詞:光阻材料錫團簇極強紫外線
外文關鍵詞:Ultraviolet PhotoresistTin Clusters
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適用於極紫外線之無機光阻劑為目前各大半導體產業研發的最新趨勢,在有機錫金屬化合物方面在無機化學合成上已經有前人之建樹可做為改良對象。本團隊以各種有機錫試劑與含氧酸進行縮合反應得到有機錫團簇物,本人著重於發展較小分子之新式團簇物。使用極紫外光進行曝光並顯影做檢測與佐證。
Inorganic photoresists suitable for extreme ultraviolet light are the latest trends in current research and development in various semiconductor industries. In the Research areas of organic tin compounds, there are already achievements in inorganic chemical synthesis that can be used as improvement targets. The team used a variety of organotin reagents to react with oxoacids to obtain organotin clusters. I focused on developing smaller clusters. Extreme ultraviolet light was used for exposure and development for detection and confirmation.
目錄
中文摘要 III
Abstract IV
圖目錄 V
第一節 緒論 1
第二節 文獻回顧 4
2-1 氧化錫團簇物13.5奈米EUV微影性質探討 4
2-2 以羰酸及各式磷酸合成新型混合有機氧化錫鼓狀團簇物 5
2-3 以鄰茴香酸與雙有機四價錫合成與光譜分析錯合物 6
2-4 合成具有螢光性質的五錫梯狀團簇錯合物 7
2-5 合成並分析含氮羰酸之四錫錯合物 8
2-6 合成含有機磷硫之七錫核團簇物 9
第三節 結果與討論 10
3-1 實驗動機與構思 10
3-2十二錫團簇系列探討 11
3-3六錫鼓狀團簇系列 22
3-4四錫網/梯狀團簇系列 32
3-5五錫網狀團簇物 39
3-6硫頂蓋七錫磷團簇 46
3-7 檢測條件、結果及討論 47
第四節 結論 50
第五節 實驗部分 51
5-1 實驗之一般操作 51
5-2十二錫團簇系列基質合成(1a~1e) 54
5-3六錫鼓狀團簇系列合成(2a~2g) 56
5-4四錫網狀團簇系列合成(4a-4p) 58
5-5五錫網狀團簇合成(5a) 59
5-6硫頂蓋七錫磷團簇合成(6a) 59
5-7實驗光譜數據資料 59
5-8 X-射線結晶結構和數據 70
十二錫團簇系列化合物前驅物的X-射線結晶結構和數據 70
1b化合物的X-射線結晶結構和數據 92
2c化合物的X-射線結晶結構和數據 131
2e化合物的X-射線結晶結構和數據 132
2f化合物的X-射線結晶結構和數據 154
3a化合物的X-射線結晶結構和數據 155
4e化合物的X-射線結晶結構和數據 170
4p化合物的X-射線結晶結構和數據 198
4q化合物的X-射線結晶結構和數據 228
4r化合物的X-射線結晶結構和數據 250
5a化合物的X-射線結晶結構和數據 272
6a化合物的X-射線結晶結構和數據 303
6b化合物的X-射線結晶結構和數據 313
6d化合物的X-射線結晶結構和數據 314
7a化合物的X-射線結晶結構和數據 333
第六節 參考文獻 356

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