|
[1] F. Chen and D. Gerion, Nano Lett., 2004, 4, 1827–1832. [2] T. Zhang, J. L. Stilwell, D. Gerion, L. Ding, O. Elboudwarej, P. A. Cooke, J. W. Gray, A. P. Alivisatos, and F. F. Chen, Nano Lett., 2006, 6, 800-808. [3] S. Jun, J. Lee, and E. Jang, ACS Nano, 2013, 7, 1472-1477. [4] V. Bagalkot, L. Zhang, E. Levy-Nissenbaum, S. Jon, P. W. Kantoff, R. Langer, O. C. Farokhzad, Nano Lett., 2007, 7, 3065-3070. [5] X. Hu. and X. Gao, ACS nano, 2010, 4, 6080-6086. [6] C. Kirchner, T. Liedl, S. Kudera, T. Pellegrino, A. M. Javier, H. E. Gaub, S. Sto1lzle, N. Fertig, and W. J. Parak, Nano Lett., 2005, 5, 331-338. [7] S. T. Selvan, T. T. Tan, and J. Y. Ying, Adv. Mater., 2005, 17, 1620-1625. [8] W. Stöber, A. FINK, and E. Bohn, J. Colloid Interface Sci. ,1968, 26, 62-69. [9] A. L. Rogach, D. Nagesha, J. W. Ostrander, M. Giersig, and N. A. Kotov, Chem. Mater., 2000, 12, 2676-2685. [10] D. Gerion, F. Pinaud, S. C. Williams, W. J. Parak, D. Zanchet, S. Weiss, and A. P. Alivisatos, J. Phys. Chem. B, 2001, 105, 8861-8871. [11] T. Nann, and P. Mulvaney, Angew. Chem. Int. Ed., 2004, 43, 5393-5396. [12] M. Darbandi, R. Thomann, and T. Nann, Chem. Mater., 2005, 17, 5720-5725. [13] N. R. Jana, C. Earhart, and J. Y. Ying, Chem. Mater., 2007, 19, 5074-5082. [14] H. Chen, C. Hsu, and H. Hong, IEEE Photon. Technol. Lett., 18, 193-195. [15] V. I. Klimov, J. Phys. Chem. B, 2006, 110, 16827-16845. [16] A. M. Smith, and S. Nie, Acc. Chem. Res., 2010, 43, 190-200. [17] S. K. Shin, H. Yoon, Y. J. Jung, and J. W. Park, Curr. Opin. Biotechnol., 2006, 10, 423-429. [18] T. H. Gfroerer, Encyclopedia of Analytical Chemistry, 2000, 9209-9231. [19] K. J. Klabunde, J. Stark, O. Koper, C. Mohs, D. G. Park, S. Decker, Y. Jiang, I. Lagadic, and D. Zhang, J. Phys. Chem., 1996, 100, 12142-12153. [20] K. Jeon, S. Oh, Y. D. Suh, H. Yoshikawa, H. Masuharac, and M. Yoon, Phys. Chem. Chem. Phys., 2009, 11, 534-542. [21] P. Reiss, M. Protiere and L. Li, Small, 2009, 5, 154-168. [22] D. V. Talapin, A. L. Rogach, A. Kornowski, M. Haase and H. Weller, Nano Lett., 2001, 1, 207-211. [23] D. V. Talapin, R. Koeppe, S. Gotzinger, A. Kornowski, J. M. Lupton, A. L. Rogach, O. Benson, J. Feldmann and H. Weller, Nano Lett., 2003, 3, 1677-1681. [24] D. V. Talapin, I. Mekis, S. Go1tzinger, A. Kornowski, O. Benson, and H. Weller, J. Phys. Chem. B, 2004, 108, 18826-18831. [25] R. A. Sperling, and W. J. Parak, Phil. Trans. R. Soc. A, 2010, 368, 1333-1383. [26] H. Zhang, Z. Cui, Y. Wang, K. Zhang, X. Ji, C. Lü, B. Yang, and M. Gao, Adv. Mater., 2003, 15, 777-780. [27] H. S. Chen, M. Ando, and N. Murase, Mater. Lett., 2011, 65, 3146-3149. [28] S. Jun, J. Lee, and E. Jang, ACS Nano, 2013, 7, 1472-1477. [29] A. Wolcott, D. Gerion, M. Visconte, J. Sun, A. Schwartzberg, S. Chen, and J. Z. Zhang, J. Phys. Chem. B, 2006, 110, 5779-5789. [30] B. Jirgensons, ME Stranmains, Colloid Chemistry, McMillan, New York. 1962. [31] R. K. Iler, The chemistry of silica: solubility, polymerization, colloid and surface properties and biochemistry, Wiley, New York, 1979. [32] A. S. Dorcheh, M.H. Abbasi, J. Mater. Process. Technol., 2008, 199, 10-26. [33] L. Chu, M.I. Tejedor-Tejedor, M.A. Anderson, Microporous Mater., 1997, 8, 207-213. [34] R.A. Assink, and B.D. Kay, J. Non-cryst. Solids., 1988, 99, 359. [35] C.J. Brinker, G. W. Sherer, The Physics and Chemistry of Sol-Gel Processing, 1990, 108-215. [36] M. J. Lawrence, and G. D. Rees, Adv. Drug Deliv. Rev., 2000, 45, 89-121. [37] R. Koole, M. M. van Schooneveld, J. Hilhorst, C. de Mello Donegá, D. C. Hart, A. van Blaaderen, D. Vanmaekelbergh, and A. Meijerink, Chem. Mater., 2008, 20, 2503. [38] Masanori Ando, Chunliang Li, Ping Yang, and Norio Murase, J. Biomed. Biotechnol., 2007, 2008. [39] I. M. Kooter, A. J. Pierik, M. Merkx, B. A. Averill, N. Moguilevsky, A. Bollen, and R. Wever, J. Am. Chem. Soc., 1997, 119, 11542-11543. [40] R. Hong, J. Li, S. Zhang, H. Li, Y. Zheng, J. Ding, and D. Wei, Appl. Surf. Sci., 2009, 255, 3485-3492. [41] K. M. Kim, J. H. Jeon, Y. Y. Kim, H. K. Lee, O O. Park, and D. H. Wang, Org. Electron., 2015, 25, 44-49. [42] J. Poppe, S. Gabriel, L. Liebscher, S. G. Hickey, and A. Eychmuller, J. Mater. Chem. C, 2013, 1, 1515-1524. [43] Ayyaswamy Arivarasan, Ganapathy Sasikala, Ramasamy Jayavel, Mater. Sci. Semicond. Process, 2014, 25, 238-243. [44] K. Koc, F. Z. Tepehan, and G. G. Tepehan, Chalcogenide Lett., 2011, 8, 239-247. [45] H. Jiang, and H. Ju, Anal. Chem., 2007, 79, 6690-6696. [46] K. S. Aneja, S. Bohm, A. S. Khannaa, and H. L. M. Bohmc, Nanoscale, 2015, 7, 17879-17888. [47] S. Musić, N. Filipović-Vinceković, and L. Sekovanić, Braz. J. Chem. Eng., 2011, 28, 89-94. [48] S. F. Wuister, I. Swart, F. van Driel, S. G. Hickey, and C. D. Donega, Nano Lett., 2003, 3, 503-507. [49] M. Andoa, Y. Pinga, and N. Murasea, Phys Procedia., 2010, 3, 1553-1555. [50] S. Jeong, J. S. Lee, J. Nam, K. Im, J. Hur, J. J. Park, J. M. Kim, B. Chon, T. Joo, and S. Kim, J. Phys. Chem. C, 2010, 114, 14362–14367. [51] J. J. Park, P. Prabhakaran, K. K. Jang, Y. G. Lee, J. Lee, K. H. Lee, J. Hur, J. M. Kim, N. Cho, Y. Son, D. Y. Yang, and K. S. Lee, Nano Lett., 2010, 10, 2310-2317. [52] M. S. Mehata, M. Majumder, B. Mallik, and N. Ohta, J. Phys. Chem. C, 2010, 114, 15594-15601. [53] Y. Du, P. Yang, H. S. Chen, Q. Che, Y. Liu, H. He, Y. Miao, and J. Zhao, RSC Adv., 2014, 4, 59733-59739. [54] M. Vasileiadis, I. Koutselas, S. Pispas and N. A. Vainos, J. Polym. Sci. B Polym. Phys., 2016, 54, 552-560. [55] H. Y. Kim, D. E. Yoon, J. Jang, D. Lee, G. M. Choi, J. H. Chang, J. Y. Lee, D. C. Lee, and B. S. Bae, J. Am. Chem. Soc., 2016, 138, 16478−16485. [56] C. F. Wang, F. Fan, R. P. Sabatini, O. Voznyy, K. Bicanic, X. Li, D. P. Sellan, M. Saravanapavanantham, N. Hossain,K. Chen, S. Hoogland, and E. H. Sargent, Chem. Mater., 2017, 29, 5104-5112. [57] J. Y. Lien, C. J. Chen, R. K. Chiang, and S. L. Wang, OPT EXPRESS, 2016, 24, A1021-A1032. [58] W. Chen, K. Wang, J. Hao, D. Wu, J. Qin, D. Dong, J. Deng, Y. Li, Y. Chen, and W. Cao, Nanophotonics, 2016, 5, 565-572. [59] M. Adam, T. Erdem, G. M. Stachowski, Z. Soran-Erdem, J. F. L. Lox, C. Bauer, J. Poppe, H. V. Demir, N. Gaponik, and A. Eychmüller, ACS Appl. Mater. Interfaces, 2015, 7, 23364−23371. [60] M.Adam, Z. Wang, A. Dubavik, G. M. Stachowski, C. Meerbach, Z. Soran-Erdem, C. Rengers, H. V. Demir, N. Gaponik, and A. Eychmüller, Adv. Funct. Mater., 2015, 25, 2638–2645. |